Question

Os filmes finos têm sido utilizados em diferentes aplicações como revestimentos óticos e proteção metálica, podendo ser obtidos por meio de diferentes processos. Os filmes de sílica (SiO ) podem ser obtidos por meio de 2 decomposição de vapor químico. Nesse processo o tetracloreto de silício gasoso (SiCl4) reage com gás hidrogênio (H2) e gás carbônico (CO ). Além do filme de sílica são formados, como 2 subprodutos, os gases cloreto de hidrogênio (HC•) e monóxido de carbono (CO). A transformação química descrita é corretamente representada por:

Accepted Answer

A) SiC•4(g) + 2H2(g) + 2CO2(g) → SiO2(s) + 4HC•(g) + 2CO(g)

Answer

B) SiO2(s) + SiC•4(g) + 2H2(g) → 2Si(s) + 4HC•(g) + O2(g)

Answer

C) SiC•4(g) + 2H2(g) + O2(g) → SiO2(s) + 4HC•(g)

Answer

D) SiO2(s) + 4HC•(g) + 2CO2(g) → SiC•4(g) + 2H2O(g) + 2CO(g) +O2(g)

Answer

E) SiO2(s) + 4HC•(g) + 2CO(g) → SiC•4(g) + 2H2(g) + 2CO2(g)

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